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        河北控溫光催化反應儀CY-GHX-DC操作指導

        河北控溫光催化反應儀CY-GHX-DC操作指導

        更新時間:2019-10-10
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        河北控溫光催化反應儀CY-GHX-DC操作指導,光化學反應儀, 又稱為光化學反應釜,多功能光化學反應器.主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

        河北控溫光催化反應儀CY-GHX-DC操作指導的詳細資料:

        河北控溫光催化反應儀CY-GHX-DC操作指導

        光化學反應儀, 又稱為光化學反應釜,多功能光化學反應器.主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。                                                                                                                                                                                                             

        技術參數:

        型號:CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

        (一)主體部分

        1.光源功率可連續調節大小。

        2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

        3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

        4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。

        5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。

        (二)小容量反應部分

        1.石英試管規格:30ml、50ml(或定做)。

        2.可同時處理8個樣品(或定做)。

        3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

        (三)大容量反應部分

        1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

        2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

        (四)控溫裝置

        1.冷卻水循環裝置制冷量:>1000W

        2.控溫范圍:-5°C到100°C

        3.冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。

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        化學反應釜監控系統概要設計

               1.項目背景 

        化學反應釜是許多化工生產企業的重要生產設備,對其內部的溫度、壓力、液位等參數的監控,使它們符合工藝要求,可以保證化學反應的順利進行,使產品質量得到提高。本項目就是模擬這種實際需求(但進行了簡化)來進行開發?;瘜W反應釜監控系統設計為兩級:監控中心和參數采集器,   

        本模擬項目的監控中心由4臺PC機組成一個局域網,其中一臺用作數據庫服務器,一臺作通信機,另二臺為管理客戶機;參數采集器也是一臺PC機。  參數采集器是設置在化學反應釜附近,負責采集本反應釜的溫度、壓力、液位。本項目中用一臺PC機來模擬三個參數的   以太網  監控中心  客戶機 客戶機 服務器  通信客戶機  參數采集 產生,這些參數可以通過RS-232串行口傳送給監控中心的通信客戶機,通信客戶機把接收到的參數存入相關數據庫表中,管理人員可在二臺客戶機上完成相應管理功能。 

        注:  ·一臺PC機模擬三個參數的采集,可以用程序來自動生成這三個參數。  ·

        通信客戶機采用輪循方式讀取三個參數采集器中的數據。

        2.功能要求  ·通信客戶機每隔10秒給三個參數采集器輪循發一次讀命令,參數采集器響應命令并發送其采集的參數,

        通信客戶機接收參數后把其保存在對應的參數表中。  ·管理人員可以通過客戶機上的操作界面查詢三個參數的歷史度數,并發命令讀取任一參數當前數值。  ·管理員可以通過客戶機上的操作界面實時的監控反應釜三個參數的變化,當參數超過設定的上、下限值時,應報警(采用紅色、閃爍顯示)。  ·

        管理員可以通過客戶機上的操作界面來設置參數的報警上、下限值。  ·

        系統能用曲線形式表示反應釜三個參數的變化,以24小時為一時段。 

        3.提示(僅作參考,詳細設計由項目小組自行進行) ·

        采集參數時是以監控中心為主動方,而不是參數采集器主動發送;  ·需要設置的數據庫表:溫度參數表、壓力參數表、液位參數表、參數上、下限值表等。

         

        光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能,使其直接轉變為化學能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時,光激發電子躍遷到導帶,形成導帶電子(e-),同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續性,電子和空穴的壽命較長,它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動,與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發生氧化還原反應,或者被表面晶格缺陷俘獲??昭ê碗娮釉诖呋瘎┝W觾炔炕虮砻嬉材苤苯訌秃?,空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發生作用生成經基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子,能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。

        由于光催化還屬于一種新興的技術,有很多因素還需要額外考慮,諸如納米光催化劑的制備技術、納米光催化劑的高活性和高壽命技術、納米光催化劑的固載化技術和納米光催化劑反應的設計技術,這些因素的實現勢必會使得凈化器價格攀升,從而影響推廣。然而該技術zui大的不足在于,從利用太陽光效率的角度看,半導體的光吸收波長范圍狹窄,主要在紫外區,利用太陽光的比例低;光生載流子的復合率很高,導致量子效率較低。

         


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